鑠思百檢測

DETECTION OF TECHNICAL SOUSEPAD

透射電子顯微鏡(TEM-EDS)掃描電子顯微鏡(FESEM-EDS)球差電鏡激光共聚焦顯微鏡(LSCM)原子力顯微鏡(AFM)電子探針儀(EPMA)金相顯微鏡電子背散射衍射儀(EBSD)臺階儀,膜厚儀,探針接觸式輪廓儀,3D輪廓儀工業(yè)CT白光干涉儀(非接觸式3D表面輪廓儀)電鏡測試FIB制樣離子減薄制樣冷凍超薄切片制樣樹脂包埋制樣(生物制樣)液氮脆斷制樣金網(wǎng)鉬網(wǎng)銅網(wǎng)超薄碳膜微柵制樣電鏡制樣X射線光電子能譜分析儀(XPS)紫外光電子能譜(UPS)俄歇電子能譜(AES)X射線衍射儀(XRD)X射線散射儀SAXS/WAXSX射線殘余應(yīng)力分析儀X射線熒光光譜分析儀(XRF)電感耦合等離子體光譜儀(ICP-OES)紫外可見反射儀(DRS)拉曼光譜(RAMAN)紫外-可見分光光度計(UV)圓二色譜(CD)傅里葉變換紅外光譜分析儀(FTIR)吡啶紅外(DRIFTS)單晶衍射儀穆斯堡爾光譜儀穩(wěn)態(tài)瞬態(tài)熒光光譜分析儀(PL)原子吸收分光光度計原子熒光光度計(AFS)三維熒光 /熒光分光光度計紅外熱成像儀霧度儀旋光儀橢偏儀光譜測試電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)電噴霧離子化質(zhì)譜儀(ESI-MS)頂空-固相微萃取氣質(zhì)聯(lián)用儀(HS -SPME -GC -MS)二次離子質(zhì)譜(SIMS)基質(zhì)輔助激光解吸電離飛行時間質(zhì)譜儀(MALDI-TOF)裂解氣質(zhì)聯(lián)用儀(PY-GC-MS)氣質(zhì)聯(lián)用儀(GC-MS)同位素質(zhì)譜儀液質(zhì)聯(lián)用儀(LC-MS)質(zhì)譜測試差示掃描量熱儀(DSC)熱重分析儀(TGA)熱分析聯(lián)用儀(DSC-TGA)靜態(tài)/動態(tài)熱機械分析儀(TMA/DMA)熱重紅外聯(lián)用儀(TG-IR)熱重紅外質(zhì)譜聯(lián)用儀(TG-IR-MS)熱重紅外氣相質(zhì)譜聯(lián)用(TG-IR-GC-MS)紅外熱成像儀激光導熱儀錐形量熱儀(CONE)熱譜測試電子順磁共振波譜儀(EPR、ESR)固體核磁共振儀(NMR)液體核磁共振儀(NMR)微波網(wǎng)絡(luò)矢量分析儀/矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀核磁順磁波譜測試比表面及孔徑分析儀(BET)表面張力儀(界面張力儀)高壓吸附儀化學吸附儀(TPD TPR)接觸角測量儀納米壓痕儀壓汞儀(MIP)表界面物性測試氣相色譜儀(GC)高效液相色譜儀(HPLC)離子色譜儀(IC)凝膠色譜儀(GPC)液相色譜(LC)色譜測試電導率儀電化學工作站腐蝕測試儀介電常數(shù)測定儀卡爾費休水分測定儀自動電位滴定儀電化學儀器測試Zeta電位儀工業(yè)分析激光粒度儀流變儀密度測定儀納米粒度儀邵氏 維氏 洛氏硬度計有機鹵素分析儀(F,Cl,Br,I,At,Ts)有機元素分析儀(EA)粘度計振動樣品磁強計(VSM)土壤分析測試植物分析測試其他測試同步輻射GIWAXS GISAXS同步輻射XRD,PDF,SAXS同步輻射吸收譜-高能機時同步輻射吸收譜之軟X射線同步輻射吸收譜之硬X射線同步輻射聚焦離子束掃描電鏡(FIB-SEM)礦物定量分析系統(tǒng)MLA球差校正透射電子顯微鏡高端電鏡類原位XPS測試原位EBSD(in situ -EBSD)原位紅外原位掃描電子顯微鏡(in-situ-SEM)原位透射電子顯微鏡高端原位測試飛行時間二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS)輝光放電光譜(GD-OES MS)三維原子探針(APT)高端質(zhì)譜類Micro/Nano /工業(yè)CT飛秒瞬態(tài)吸收光譜儀(fs-TAS)掃描隧道顯微鏡深能級瞬態(tài)譜儀正電子湮滅壽命譜儀其他XPS數(shù)據(jù)分析XRD全巖黏土分析表面成分分析技術(shù)-XPS測試分析常規(guī)XRD數(shù)據(jù)分析成分指紋分析技術(shù)-紅外測試分析二維紅外光譜技術(shù)紅外(IR)數(shù)據(jù)分析拉曼數(shù)據(jù)分析三維熒光數(shù)據(jù)分析圓二色譜(CD)數(shù)據(jù)分析成分含量分析EPR/ESR數(shù)據(jù)分析VSM數(shù)據(jù)分析電化學數(shù)據(jù)分析矢量網(wǎng)絡(luò)數(shù)據(jù)分析電磁分析CT數(shù)據(jù)分析X射線吸收精細結(jié)構(gòu)普(XAFS)數(shù)據(jù)分析穆斯堡爾譜數(shù)據(jù)分析小角散射(SAXS/WAXS)數(shù)據(jù)分析高端測試分析固體核磁數(shù)據(jù)分析液體核磁(NMR)測試+分析一體化液體核磁(NMR)數(shù)據(jù)分析化學結(jié)構(gòu)分析EBSD數(shù)據(jù)分析TEM數(shù)據(jù)分析單晶XRD數(shù)據(jù)分析晶體結(jié)構(gòu)確證技術(shù)-XRD精修XRD定性定量分析晶體結(jié)構(gòu)分析BET數(shù)據(jù)分析其它數(shù)據(jù)分析需求熱分析數(shù)據(jù)處理數(shù)據(jù)分析作圖其他數(shù)據(jù)分析半導體激光器模擬發(fā)光二極管仿真光電探測器仿真太陽能電池仿真半導體器件仿真表面能差分密度磁矩單原子催化電荷密度電解水制氫反應(yīng)(HER)費米面(fermi surface)電子局域化函數(shù)(electron localization function)第一性原理分子模擬量子化學相分析有限元模擬常規(guī)理化-水樣常規(guī)理化-土樣/沉積物常規(guī)理化-氣體常規(guī)理化-植物/蔬果/農(nóng)作物常規(guī)理化-食品常規(guī)理化-肥料/飼料常規(guī)理化-巖礦常規(guī)理化-垃圾常規(guī)理化-職業(yè)衛(wèi)生常規(guī)理化-其它常規(guī)理化項目纖維素、半纖維素、木質(zhì)素含量bcr形態(tài)順序提取/tessier五步提取法土壤水體抗生素微塑料微生物磷脂脂肪酸(PLFA)非標理化-其它非標理化項目穩(wěn)定同位素放射性同位素同位素-其它金屬同位素同位素多糖的單糖組成測定可溶性寡糖定量土壤氨基糖多糖全套分析多糖甲基化植物糖化學-常規(guī)指標糖化學液質(zhì)聯(lián)用LCMS高效液相色譜HPLC氣相色譜GC氣質(zhì)聯(lián)用GCMS全二維氣質(zhì)GC×GC-MS氣相色譜-離子遷移譜聯(lián)用儀(GC-IMS)液相色譜-原子熒光聯(lián)用(LC-AFS)制備型HPLC色譜質(zhì)譜數(shù)據(jù)分析液相色譜-電感耦合等離子體質(zhì)譜(LC-ICPMS)色譜質(zhì)譜DOM(FT- ICR- MS)水質(zhì)NOM(LC-OCD-OND)DOM(FT-ICR-MS)數(shù)據(jù)分析環(huán)境高端電池產(chǎn)品整體解決方案正極顆粒表面微觀形貌正極顆粒物截面形貌與元素三元正極顆粒循環(huán)前后晶界裂紋正極顆粒摻雜元素分布正極顆粒截面元素分布和晶格表征正極極片原位晶相分析正極極片截面元素分布和晶格表征正極表面CEI膜測試方法XPS正極極片截面微觀形貌觀察和元素分布正極極片CEI膜成分分析與厚度測定正極極片介電常數(shù)正極極片浸潤性正極極片包覆層觀察正極極片雜質(zhì)含量測定正極極片氧空位測定負極顆粒表面微觀形貌觀察和元素分布負極顆粒截面微觀形貌觀察和元素分布石墨類型判定負極顆粒粒徑分析負極極片孔洞分析負極顆粒包覆層觀察負極顆粒羥基含量測定負極極片包覆層觀察負極表面SEI膜分析XPS法負極極片SEI膜成分分析與厚度測定負極極片截面微觀形貌觀察和元素分布負極極片石墨碳和無定型碳比例隔膜表面微觀形貌觀察隔膜循環(huán)前后孔徑變化質(zhì)子交換膜形貌(厚度)觀察 CP+SEM質(zhì)子交換膜雜質(zhì)元素電池循環(huán)后鼓包氣電池循環(huán)后爆炸氣鋰電池極片和集流體間的粘結(jié)強度三元正極材料NCM比例燃料電池-整體解決方案電池產(chǎn)品-隔膜電池產(chǎn)品-優(yōu)勢項目正極材料-PH值正極材料-比表面積正極材料-磁性異物正極材料-化學成分正極材料-晶體結(jié)構(gòu)正極材料-粒徑分布正極材料-首次放電比容量及首次庫倫效率正極材料-水分含量正極材料-松裝密度正極材料-未知物分析正極材料-形貌,厚度與結(jié)構(gòu)正極材料-壓實密度正極材料-振實密度電池產(chǎn)品-正極材料負極材料-PH值負極材料-比表面積負極材料-層間距 石墨化度負極材料成分分析負極材料-磁性異物負極材料-粉末壓實密度負極材料-固定碳含量負極材料-化學成分負極材料-粒徑分布負極材料-石墨鑒定負極材料-水分負極材料-限用物質(zhì)含量負極材料-形貌與結(jié)構(gòu)負極材料-陰離子的測定負極材料-有機物含量負極材料-真密度負極材料-振實密度負極顆粒-石墨取向性(OI值)首次放電比容量及首次庫倫效率電池產(chǎn)品-負極材料電解液-電導率電解液-化學元素含量電解液-密度電解液-水分含量電解液-未知物分析電解液-游離酸(HF含量)電池產(chǎn)品-電解液電池產(chǎn)品-隔膜電池產(chǎn)品-隔膜
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差分密度(Charge density difference)

 
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第一性原理

樣品準備須知!??!

1.請務(wù)必確認方案內(nèi)容,最后結(jié)果交付以方案內(nèi)容為準(除卻中間有意外,另行溝通情況),凡是在結(jié)果交付后,另外補加的要求,需另外評估是否收費。

2.在計算初期確認模型時,請務(wù)必仔細認真確認該模型,結(jié)果交付后,不接受因為模型問題提出的更改模型的售后要求。

3.請務(wù)必確認信息提供準確且沒有遺漏,信息盡量提供全面,如果在計算開始以后,又增加信息,視情況協(xié)商對原方案的影響以及收費情況。

4.對于軟件版權(quán)問題,需要自己解決,如果需要我方解決,請?zhí)崆皽贤ㄕf明,我們盡量解決,但不必須確保解決,不接受因此不付款的理由。

5.最后結(jié)果交付內(nèi)容包括:計算方法(不是計算結(jié)果的分析)的說明,最終的結(jié)構(gòu)文件,某些涉及作圖所需的數(shù)據(jù)。除以上內(nèi)容之外,有其他要求,請?zhí)崆罢f明。交付結(jié)果后,另外提出的要求,我們會盡量協(xié)助解決,但不保證一定能解決。

6.
我們保證計算結(jié)果的真實性和有效性,但是無法保證計算結(jié)果一定符合您的預(yù)期,請務(wù)必確認該風險。

7.
我們不承擔拒稿責任哦,但是我們會盡量協(xié)助解決審稿意見的問題,涉及需要補算的內(nèi)容,需要另評估收費。

8.
交付結(jié)果后,請在一周內(nèi)反饋結(jié)果問題。長時間不查看結(jié)果,結(jié)果問題反饋時間距離交付結(jié)果時間太久的,我們視情況進行問題的解答(因為源數(shù)據(jù)不一定還有保留,所以一定要及時反饋哦)。

9.
再次提醒:有不懂的可以多交流,但是交付結(jié)果后,請不要以“我不懂計算”為理由,提出不對應(yīng)原方案的另外的要求,我們最終交付結(jié)果均以方案為核對參考。



樣品測試填寫要求注意事項

1.請問您是研究什么方向的呢

電催化、光催化、熱催化電池、半導體、能源、其他

2.是否已經(jīng)有對接老師和您溝通好需求,現(xiàn)在需要下單了?

已經(jīng)溝通好需求,現(xiàn)在需要下單、還沒有溝通,這是我的新需求

3.請再簡單描述下您的計算內(nèi)容

4.提醒:下單支付完畢才會安排計算,支付完發(fā)單號給對接工程師哦


項目簡介

第一性原理計算的基本思想是將多個原子構(gòu)成的體系看成是由多個電子和原子核組成的系統(tǒng),并根據(jù)量子力學的基本原理對問題進行最大限度的非經(jīng)驗性處理。它只需要5個基本常數(shù)(m0,eh,ckB)就可以計算出體系的能量和電子結(jié)構(gòu)等物理性質(zhì)。它可以確定已知材料的結(jié)構(gòu)和基礎(chǔ)性質(zhì),并實現(xiàn)原子級別的精準控制,是現(xiàn)階段解決實驗理論問題和預(yù)測新材料結(jié)構(gòu)性能的有力工具。并且,第一性原理計算不需要開展真實的實驗,極大地節(jié)省了實驗成本,現(xiàn)已被廣泛應(yīng)用于化學、物理、生命科學和材料學等領(lǐng)域。

適合的研究方向包括但不限于:催化、電池、半導體、金屬材料、非金屬材料、合金、納米材料等


可以計算的體系包括但不限于:晶體、非晶、二維材料、表面、界面、固體等


常用軟件:VASP,MSCP2K,QE


可以計算的內(nèi)容包括但不限于:

材料的幾何結(jié)構(gòu)參數(shù)(如鍵長、鍵角、二面角、晶格常數(shù)、原子位置等)

材料的電子結(jié)構(gòu)信息(如電荷密度、電荷差分密度、態(tài)密度、能帶、費米能級、功函數(shù)、ELF等)

材料的光學性質(zhì)(如介電常數(shù)等)

材料的力學性質(zhì)(如彈性模量等)

材料的磁學性質(zhì)(如磁導率等)

材料的晶格動力學性質(zhì)(如聲子譜等)

材料的表面性質(zhì)(如吸附能,催化計算等)

復合材料的性質(zhì)(異質(zhì)結(jié)等內(nèi)容)等等

電荷密度(Charge density)


計算內(nèi)容

1)定義及意義

第一性原理中的電荷密度指的是電子密度。根據(jù)哥本哈根解釋,量子在空間某處出現(xiàn)的概率密度等于波函數(shù)的平方。由此可以得到體系中電子在任一點處的密度。

2)結(jié)果案例展示

電子密度總是傾向于在原子核附近聚集,通過觀察電子密度無法得到任何有價值的信息。因此關(guān)心的幾乎總是差分密度。

案例:partial charge density

說明:To study the variation of the active sites in the S-doped and vacancy-defected g-C3N4, we calculated partial charge density corresponded to VBM, gap states and CBM. Fig. 3(d) shows the partial charge density of the SN2-doped system. For the CBM, the electrons mainly come from the C and N2 atoms in two of the intact triazine units, while the VBM is mainly contributed by the N2 and S atoms in the S-doped triazine unit, aided by the N2 atoms around the doped site. Additionally, the gap states originate from the C atoms and S atom in the S-doped unit. The partial charge density of VN2-defected g-C3N4 is plotted in Fig. 3(e). One can see that the CBM and gap states are both contributed by the defected triazine unit, while the VBM is contributed by all N2 atoms in the whole calculational supercell. Fig. 3(f) shows the case of g-C3N4 with C-vacancy. Clearly, the partial charge density corresponded to the CBM and VBM are similar to that in the pristine case, which are mainly contributed by the C (N2) and N2 atoms in the three of intact triazine units, respectively, while the gap states originate from the triazine unit with C-vacancy. Overall, the partitioned electron distribution corresponded to the CBM and VBM in the three systems, especially SN2-doped g-C3N4, should be beneficial to suppressing the recombination of photogenerated electron-hole pairs.

來源文獻:https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2018.12.085


結(jié)果展示

原子電荷:




差分電荷:

態(tài)密度DOS


投影態(tài)密度PDOS


功函數(shù):

能帶:


吸附能:


分解能:



遷移能壘:


催化-HER




催化-OER/ORR:

催化-CO2-RR:


樣品要求

最好提供晶體結(jié)構(gòu)文件,即cif文件;

或者可以提供與XRD實驗數(shù)據(jù)匹配的PDF卡片信息;

如果是表面結(jié)構(gòu),還需要提供晶面信息;如結(jié)構(gòu)有改性(空位、摻雜、位錯等),還需要說明細節(jié)


常見問題

1. 為什么能帶計算值一般低于實驗值?

這是PBE本身的問題,PBE是一種GGA泛函,有較強的自相互作用問題,導致電子偏向離域、帶隙低估等一系列問題。一般計算得到的帶隙比實驗低30%~50%。這種低估并不是說方法就不可以用,我們還是可以把這個方法拿來做定性分析。

解決辦法,方法有DFT+U、mBJ+U、雜化泛函

2. 為什么有些體系要加U

測試提示:

1.可開正規(guī)測試發(fā)票,附帶測試清單。

2.有腐蝕性,毒性,或其他有危害性等特殊樣品要事先告知測試人員,測試人員也要告知樣品方哪些樣品不能測或會對儀器產(chǎn)生損傷,測試后會對樣品產(chǎn)生哪些變化;

3.客戶需提供詳細的樣品資料,包括元素,主要成分和詳細測試參數(shù)及條件。和測試人員充分討論,商定最終測試條件;

4.測試人員與顧客通過QQ,微信或郵件溝通,出現(xiàn)測試糾紛,郵件或聊天記錄將作為重要的仲裁依據(jù);請加QQ和技術(shù)人員交流。QQ:82187958。微信:15071040697

5.杜絕測試、解析和合成違反國家相關(guān)法律法規(guī)的樣品,一經(jīng)發(fā)現(xiàn)將追究其法律責任。



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