鑠思百檢測(cè)DETECTION
OF TECHNICAL SOUSEPAD
DETECTION OF TECHNICAL SOUSEPAD
X射線光電子能譜儀（XPS）u項(xiàng)目簡(jiǎn)介
XPS測(cè)試注意事項(xiàng) 1. XPS可以做的項(xiàng)目：常規(guī)全譜窄譜測(cè)試、俄歇譜、價(jià)帶譜、深度濺射、MAPPING、角分辨 2. XPS測(cè)試的元素范圍是Li-Cm，H、He元素不能測(cè)試，放射性元素請(qǐng)?zhí)崆皽贤?/span> 3. XPS數(shù)據(jù)分析可以等到元素的價(jià)態(tài)及半定量數(shù)據(jù)。原子百分含量小于5%的元素可能測(cè)不出明顯信號(hào) 4. 無(wú)特殊說(shuō)明，默認(rèn)是使用單色化AlKa源（Mono AlKa）能量是1486.6eV 5. 使用Al Kα X-ray會(huì)出現(xiàn)的重疊譜峰，當(dāng)有重疊譜峰的時(shí)候直接定量的結(jié)果不能參考。下方是常見的一些重疊譜峰的情況，解決方法是a.通過(guò)分峰擬合（這個(gè)是數(shù)據(jù)分析的內(nèi)容）后再重新定量，b.測(cè)試其他軌道的峰，需要備注相應(yīng)的軌道，默認(rèn)是測(cè)試最強(qiáng)峰，c.如果是與部分元素的俄歇峰重疊，建議可以更換靶材試試，比如Mg靶 常見重疊譜峰有Li1s&Co3p；B1s&P2s；C1s&Ru3d5/2,Ru3d3/2；C1s&K2p；O1s&NaKLL；O1s&Pd3p3/2；O1s&Sb3d5/2；N1s&Mo3p3/2；N1s&GaLMM；Al2p&Pt4f5/2；Si2p&Pt5s；Mo3d5/2&S2s；Ta4f&O2s；Co2p&FeLMM；Mn2p&NiLMM；W4f&Zr4p；Al2p&Cu3p。 u樣品要求
1. 樣品狀態(tài)：可為粉末、塊狀、薄膜樣品 2. 粉末樣品：20-30mg 3. 塊狀、薄膜樣品：塊體/薄膜樣品尺寸小于5*5*3mm 注意：默認(rèn)是一個(gè)樣品測(cè)試一個(gè)位置，需要測(cè)試多個(gè)位置按照多個(gè)樣品計(jì)費(fèi)。薄膜、塊體等樣品，若樣品表面組分不均勻，會(huì)造成測(cè)試結(jié)果的差異！ u結(jié)果展示
（1）Thermo Scientific K-Alpha是相對(duì)常用的設(shè)備，其結(jié)果如下：
測(cè)試結(jié)果給出的是VGD格式和EXCEL格式測(cè)試結(jié)果。EXCEl格式文件用ORIGIN軟件作圖；VGD格式文件可以用Avantage分析軟件打開。 （2）PHI的格式如下：
測(cè)試結(jié)果給出的是原始文件SPE格式和EXCEL格式。EXCEL格式文件用Origin軟件作圖；SPE格式需要軟件Multipak打開（但定量需要注意靈敏度因子)。我們也提供XPS數(shù)據(jù)分析服務(wù)！如果您需要XPS數(shù)據(jù)分析與作圖服務(wù)，請(qǐng)聯(lián)系工程師15071040697
1. 樣品精細(xì)譜掃出譜峰？為什么全譜里沒有呢？ 全譜主要是用來(lái)定性分析的，設(shè)置參數(shù)的步長(zhǎng)比較大，含量低的在全譜里掃不出譜峰。但是精細(xì)譜掃出譜峰就表示有該元素。 2. 每種元素的檢測(cè)限一樣么？不一樣。每種元素的主峰的靈敏度因子都不一樣。 3. 怎么判斷擬合是好是壞，是擬合了兩個(gè)峰算好還是擬合了三個(gè)峰算好？看波動(dòng)大小，越小越好；還要看對(duì)應(yīng)的物理意義。波動(dòng)如下圖所示。具體擬合幾個(gè)峰，要參考樣品本身的情況，以及擬合的貼合度，沒有嚴(yán)格的界定哪個(gè)更好。
u測(cè)試提示：
1.可開正規(guī)測(cè)試發(fā)票，附帶測(cè)試清單。 2.有腐蝕性，毒性，或其他有危害性等特殊樣品要事先告知測(cè)試人員，測(cè)試人員也要告知樣品方哪些樣品不能測(cè)或會(huì)對(duì)儀器產(chǎn)生損傷，測(cè)試后會(huì)對(duì)樣品產(chǎn)生哪些變化； 3.客戶需提供詳細(xì)的樣品資料，包括元素，主要成分和詳細(xì)測(cè)試參數(shù)及條件。和測(cè)試人員充分討論，商定最終測(cè)試條件； 4.測(cè)試人員與顧客通過(guò)QQ，微信或郵件溝通，出現(xiàn)測(cè)試糾紛，郵件或聊天記錄將作為重要的仲裁依據(jù)；請(qǐng)加QQ和技術(shù)人員交流。QQ：82187958。微信：15071040697 5.杜絕測(cè)試、解析和合成違反國(guó)家相關(guān)法律法規(guī)的樣品，一經(jīng)發(fā)現(xiàn)將追究其法律責(zé)任。 相關(guān)資料 XPS 不僅能夠給出材料表面的化學(xué)組成及含量，而且可以分析出化學(xué)價(jià)態(tài)、化學(xué)鍵等信息。角分辨XPS可以在極薄的表層內(nèi)對(duì)化學(xué)信息進(jìn)行表征，利用成像XPS技術(shù)，可以提供分析區(qū)域內(nèi)的元素及其化學(xué)狀態(tài)分布的信息圖像，并可由圖得譜。此外，配合氬離子刻蝕技術(shù)，可以對(duì)材料內(nèi)部進(jìn)行深度剖析，進(jìn)一步擴(kuò)大其檢測(cè)范圍。工作原理及特點(diǎn)XPS技術(shù)的理論基礎(chǔ)源于德國(guó)物理學(xué)家赫茲于1887年發(fā)現(xiàn)的光電效應(yīng)，其結(jié)構(gòu)如下圖所示... 白光干涉儀的原理與應(yīng)用白光干涉儀由于具有精度高和非接觸式測(cè)量的明顯測(cè)量?jī)?yōu)點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于各類加工樣品和精密器件的表面特征檢測(cè)，涉及的學(xué)科已經(jīng)超過(guò)30個(gè)，助力于許多重大科技領(lǐng)域，如MEMS傳感器、超精密加工、納米技術(shù)、航天科技、光學(xué)透鏡以及摩擦磨損的研究等。就其原理，顧名思義，就是利用光的干涉原理。眾所周知著名的雙縫干涉試驗(yàn)，當(dāng)光源為單色光時(shí)，光的雙縫干涉條紋是一組平行等間距的明暗相間的直條紋... X射線光電子能譜儀（XPS測(cè)試）及美國(guó)Thermo ESCALAB 250Xi型號(hào)深度解析一、XPS技術(shù)的基本原理X射線光電子能譜（XPS）是一種基于光電效應(yīng)的表面分析技術(shù)，通過(guò)測(cè)量材料表面被X射線激發(fā)出的光電子能量分布，實(shí)現(xiàn)對(duì)元素組成、化學(xué)狀態(tài)及表面結(jié)構(gòu)的定性與定量分析。其核心原理可概括為愛因斯坦光電發(fā)射定律： **Ek = hν - EB - Φ** 其中，Ek為光電子動(dòng)能，hν為X... XPS基本基本概念和原理 XPS是基于光電效應(yīng)來(lái)進(jìn)行表面分析的。如圖1所示，用能量為hν的特征X射線照射待測(cè)樣品表面，光子將其全部能量轉(zhuǎn)移給原子或分子中的束縛電子;由于X射線能量較高，主要是原子內(nèi)層軌道上的電子被電離成自由電子。通過(guò)能量分析器和光電倍增管檢測(cè)出射電子的能量及數(shù)量，根據(jù)愛因斯坦光電發(fā)射方程(Ek=hν－EB，其中:Ek為出射電子的動(dòng)能;EB為樣品中電子的結(jié)合能;hν為入射光子... 大家經(jīng)常問(wèn)XPS刻蝕效率問(wèn)題，今天把標(biāo)準(zhǔn)參照做出來(lái)了，可以作為大家制定刻蝕時(shí)間依據(jù)！表2 刻蝕效率免責(zé)聲明：部分文章整合自網(wǎng)絡(luò)，因內(nèi)容龐雜無(wú)法聯(lián)系到全部作者，如有侵權(quán)，請(qǐng)聯(lián)系刪除，我們會(huì)在第一時(shí)間予以答復(fù)，萬(wàn)分感謝。 |
