TOF-SIMS測(cè)試常見(jiàn)的問(wèn)題及解答 二維碼
發(fā)表時(shí)間:2021-03-11 09:01作者:鑠思百檢測(cè)來(lái)源:鑠思百檢測(cè) 鑠思百檢測(cè)可為您提供TOF-SIMS測(cè)試服務(wù),TOF-SIMS是通過(guò)用一次離子激發(fā)樣品表面,打出極其微量的二次離子,根據(jù)二次離子因不同的質(zhì)量而飛行到探測(cè)器的時(shí)間不同來(lái)測(cè)定離子質(zhì)量的極高分辨率的測(cè)量技術(shù)。 在做TOF-SIMS測(cè)試時(shí),鑠思百檢測(cè)在與很多同學(xué)溝通中了解到,好多同學(xué)對(duì)此項(xiàng)目不太了解,針對(duì)此,鑠思百檢測(cè)組織相關(guān)同事對(duì)TOF-SIMS測(cè)試進(jìn)行問(wèn)題收集并整理,希望可以幫助到科研圈的伙伴們; 1.DSIMS深度分辨率為什么高于SSIMS? 回復(fù):D-SIMS采用DC模式的離子源,深度剖析時(shí)分析和濺射同時(shí)進(jìn)行,對(duì)表面是連續(xù)深度作用的過(guò)程,成分從表面到深度的信息是連續(xù)采集。而SSIMS采用脈沖模式,深度剖析時(shí)分析和濺射交替進(jìn)行,從表面的到深度的分析不是連續(xù)的過(guò)程,濺射除去的深度部分的成分信息沒(méi)有被收集到,因此深度分辨率是D-SIMS優(yōu)于S-SIMS,見(jiàn)以下示意圖: 2. 可以測(cè)三維mapping嗎? 回復(fù):可以得到3-D成像,如以下圖示: 3.鋼鐵材料表面氧化層,不同層深的檢測(cè)如何做? 回復(fù):采用TOF-SIMS深度剖析模式進(jìn)行分析。 4.深度剖析過(guò)渡層信息可信嗎,總有回跳? 回復(fù):第一看儀器測(cè)試條件的穩(wěn)定性如何?(totalion/以及其它特征離子是不是都有回跳?如果都有回跳,可能是測(cè)試條件不穩(wěn)定),如果只是特別元素回跳而其它離子比較正常,那很可能是真實(shí)的界面擴(kuò)散。還有就是基體效應(yīng)的影響??傊€是要看實(shí)際情況而定。 5.分析有機(jī)基團(tuán)與金屬離子的測(cè)試條件相同嗎? 回復(fù):通常采用Bi3++可以同時(shí)分析有機(jī)集團(tuán)和金屬離子。 6.TOF-SIMS可以測(cè)液固界面的變化嗎?對(duì)液相pH有要求嗎? 回復(fù):液體樣品必須干燥和冷凍后才能用TOF-SIMS進(jìn)行分析。對(duì)pH值沒(méi)有要求。 7.TOF-SIMS測(cè)試多層膜層,怎樣判各層? 回復(fù):多層厚膜,可以用CP/FIB加工斷面,直接測(cè)試斷面的方法,然后采用每個(gè)膜層成分的特征離子來(lái)判斷各層的分布,先掃描的方式區(qū)分不同膜層。如果多層薄膜(納米級(jí)尺度),用深度剖析方法,然后采用每個(gè)膜層成分的特征離子來(lái)判斷各層的深度分布,用深度剖析曲線或3D圖呈現(xiàn)不同結(jié)構(gòu)。 8.N元素應(yīng)該什么模式可以測(cè)試?正離子還是負(fù)? 回復(fù):通常N原子離子很難表征,需要用NH4,CN,CNO,CNS這些離子來(lái)判斷N的存在與否,NH4離子是在正離子模式出峰,而CN,CNO,CNS在負(fù)離子模式出峰。 9.EAG哪個(gè)圖在哪里找啊? 回復(fù):網(wǎng)站資源https://www.eag.com/ 10.老師如果我想檢測(cè)表面氧的變化,那怎么定量? 回復(fù):定量需要標(biāo)準(zhǔn)樣品,但可以根據(jù)O譜峰強(qiáng)度的變化來(lái)表征含量的變化。 11.金屬材料表層氧化層分析怎么做好些? 回復(fù):深度剖析的方法。用金屬氧化物的離子和O的離子從表面到深度強(qiáng)度的變化表征氧化層。 12.我想問(wèn)下樣品制備有什么要求嗎? 回復(fù):樣品越小越好:最好小于1CMX1CM,越平整越好,真空兼容,測(cè)試表面不要觸碰包裝材料,粉末用干凈玻璃瓶盛裝,固體樣品可以用鋁箔紙包裝后再放入盒子或袋子里比較好。 13.如何解析未知的譜圖,有方法嗎。如何解析未知譜峰,有技巧嗎? 回復(fù):先校正譜峰、元素識(shí)別、小分子識(shí)別到大分子判斷。有機(jī)組分需要參考數(shù)據(jù)庫(kù)里的標(biāo)準(zhǔn)圖譜等等。 14.表面氧動(dòng)態(tài)變化是nano還是tof更好呢? 回復(fù):表面分析用TOF比較好,可以成像和采譜。 15.想請(qǐng)問(wèn)老師儀器參數(shù)中質(zhì)量分辨率是什么概念? 回復(fù):質(zhì)量分辨率:m/?m,代表區(qū)分不同質(zhì)量的能力,這個(gè)數(shù)值越大說(shuō)明質(zhì)量分辨能力越好,對(duì)成分的定性越準(zhǔn)確。 16.TOF-SIMS的離子強(qiáng)度是否可以定性? 回復(fù):離子強(qiáng)度通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)樣品可以定量,定性看譜峰的荷質(zhì)比(m/z)。 17.成分些微改性需要一點(diǎn)點(diǎn)對(duì)兩個(gè)譜峰以解譜嗎? 回復(fù):些微改性,圖譜上應(yīng)該有變化,比如譜峰的出峰位置(離子不同,對(duì)應(yīng)質(zhì)量數(shù)不同),或譜峰峰強(qiáng)比會(huì)有變化。具體情況具體分析。 18.電池鋰負(fù)極測(cè)試怎么處理? 回復(fù):手套箱里拆出來(lái)剪小,通過(guò)樣品傳送管制備樣品以及保護(hù)傳送樣品。 19.肝臟組織如何制樣放進(jìn)去? 回復(fù):儲(chǔ)存在冷凍條件下。采用冷凍顯微薄片切片機(jī)在冷凍條件下制備截面樣品,解凍固定在導(dǎo)電(ITO)玻片上并儲(chǔ)存在-80°C條件下,直到分析。分析前約15分鐘,組織部分干燥,并放入干燥器中至常溫。 20.氫含量較高可以分析嗎? 回復(fù):可以分析。 21.怎么確定界面的位置? 回復(fù):兩層采用其特征離子表征,看深度曲線的變化,曲線強(qiáng)度值拐點(diǎn)最高到最低的范圍,20%-80%之間都可以設(shè)定為界面的位置。 22.膜層H的含量分布可以測(cè)嗎? 回復(fù):可以。 23.解離之后的碎片不會(huì)再重新組合嗎? 回復(fù):有重新組合的離子碎片。 24.老師,我的問(wèn)題:在測(cè)試表面氧化的金屬合金過(guò)程中,需要提前提供什么信息嗎?比如元素或者化合態(tài)嗎? 回復(fù):能提供越多的樣品信息越好,比如關(guān)注哪種金屬離子和金屬氧化物,分析的時(shí)候可以有針對(duì)性識(shí)別,但TOF可以分析未知無(wú)機(jī)成分。 25.可以測(cè)試si中參雜的o不? 回復(fù):含量在ppt-ppb范圍內(nèi)用D-SIMS測(cè)試,含量在ppm范圍內(nèi)可以用TOF-SIMS測(cè)試。 26.老師,不銹鋼材料FIB最大可挖多少um? 回復(fù):不同設(shè)備FIB的能力不同,通常10微米以上應(yīng)該是沒(méi)問(wèn)題的。 27.TOF濺射掉的每一層厚度約多少,或者說(shuō)沒(méi)1秒跳過(guò)的厚度怎么確定? 回復(fù):不同濺射條件(離子源能量,濺射時(shí)間等)對(duì)應(yīng)不同的濺射厚度,最小可以小于1nm??梢詼y(cè)試標(biāo)準(zhǔn)樣品得到濺射速率(每秒濺射多厚)或采用輪廓儀等進(jìn)行深度測(cè)試,計(jì)算濺射速率。 28.PI產(chǎn)生SI后再飛行過(guò)程中會(huì)重新組合嗎,組合的話,一般多大和多大的分子組合? 回復(fù):會(huì)組合,但與出射二次離子,基體效應(yīng)等都有關(guān)系,不是絕對(duì)的規(guī)律性。不能一概而論。TOF-SIMS圖譜確實(shí)比較復(fù)雜。 29.SIMS、EDS不銹鋼中C含量準(zhǔn)確性差別? 回復(fù):EDS可以半定量,但EDS不適合原子序數(shù)低的元素定量。SIMS定量需要標(biāo)樣定量法,常規(guī)測(cè)試得不到含量值。 30.樣品表面是不是還是需要基本平整? 回復(fù):最好平整,如果粗糙度大,高度差盡量不要超過(guò)150微米。 31.從碎片怎么確定成分如Au2SO3? 回復(fù):分別采集正負(fù)離子圖譜,Au在正負(fù)離子模式下都有明顯的產(chǎn)額,伴隨Aux團(tuán)簇離子。SOx主要在負(fù)離子模式下產(chǎn)額高,S/SO/SO2/SO3這些離子都會(huì)出現(xiàn),AuxSy或AuxSOy這種離子也會(huì)出現(xiàn)。 32.老師,您那邊是德國(guó)的ION-tof嗎? 回復(fù):鑠思百檢測(cè)有德國(guó)ION-TOF的資源以及PHINANOTOF的資源。兩種型號(hào)的設(shè)備能力都可以滿足TOF-SIMS的分析能力。 |