掃描電鏡制樣

掃描電子顯微鏡（Scanning Electron Microscope ，縮寫為SEM），簡(jiǎn)稱掃描電鏡，是利用細(xì)聚焦電子束在樣品表面掃 描時(shí)激發(fā)出來的各種物理信號(hào)來調(diào)制成像的一種常用的顯微分析儀器。

掃描電鏡試樣可以是塊狀或粉末顆粒，在真空中能保持穩(wěn)定即可，含有水分的試樣應(yīng)先烘干除去水分。表面受到污染的試樣，要在不破壞試樣表面結(jié)構(gòu)的前提下進(jìn)行適當(dāng)清洗，然后烘干。新斷開的斷口或斷面，一般不需要進(jìn)行處理，以免破壞斷口或表面的結(jié)構(gòu)狀態(tài)。有些試樣的表面、斷口需要進(jìn)行適當(dāng)?shù)那治g，才能暴露某些結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)，則在侵蝕后應(yīng)將表面或斷口清洗干凈，然后烘干。對(duì)磁性試樣要預(yù)先去磁，以免鑠思百檢測(cè)在觀察時(shí)，電子束受到磁場(chǎng)的影響從而影響結(jié)果。試樣大小要適合儀器專用樣品座的尺寸，不能過大，樣品座尺寸各儀器不均相同，一般小的樣品座為Φ3~5mm ,大的樣品座為Φ30~50mm ,以分別用來放置不同大小的試樣，樣品的高度也有一定的限制，一般在5~10mm左右。

粉末試樣的制樣，需先將導(dǎo)電膠或雙面膠紙粘結(jié)在樣品座上，再均勻地把粉末樣撒在上面，用洗耳球吹去未粘住的粉末，再鍍上一層導(dǎo)電膜，鑠思百檢測(cè)就可以開始使用電鏡觀察。

塊狀試樣掃描電鏡的制樣是比較簡(jiǎn)便的。對(duì)于塊狀導(dǎo)電材料，除了大小要適合儀器樣品座尺寸外，基本上不需要進(jìn)行什么制樣，鑠思百檢測(cè)即可用導(dǎo)電膠把試樣粘結(jié)在樣品座上，放在掃描電鏡中觀察。對(duì)于塊狀的非導(dǎo)電或?qū)щ娦暂^差的材料，要先進(jìn)行鍍膜處理，在材料表面形成一層導(dǎo)電膜，以避免電荷積累，影響圖象質(zhì)量，并可防止試樣的熱損傷。

鍍膜的方法有兩種，一是真空鍍膜，另一種是離子濺射鍍膜。離子濺射鍍膜的原理是:在低氣壓系統(tǒng)中，氣體分子在相隔一定距離的陽(yáng)極和陰極之間的強(qiáng)電場(chǎng)作用下電離成正離子和電子，正離子飛向陰極，電子飛向陽(yáng)極，二電極間形成輝光放電，在輝光放電過程中，具有一定動(dòng)量的正離子撞擊陰極，使陰極表面的原子被逐出，稱為濺射，如果陰極表面為用來鍍膜的材料(靶材)，需要鍍膜的樣品放在作為陽(yáng)極的樣品臺(tái)上，則被正離子轟擊而濺射出來的靶材原子沉積在試樣上，形成一定厚度的鍍膜層。離子濺射時(shí)常用的氣體為惰性氣體氬,要求不高時(shí)，也可以用空氣,氣壓約為5x10^-2Torr 。

離子濺射鍍膜與真空鍍膜相比，其主要優(yōu)點(diǎn)是:

（1）裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用方便，濺射一次只需幾分鐘，而真空鍍膜則要半個(gè)小時(shí)以上。

（2）消耗貴金屬少，每次僅約幾毫克。

（3）對(duì)同一種鍍膜材料，離子濺射鍍膜質(zhì)量好，能形成顆粒更細(xì)、更致密、更均勻、附著力更強(qiáng)的膜。

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