掃描電鏡發(fā)展

掃描電鏡用細聚焦的電子束轟擊樣品表面，通過電子與樣品相互作用產(chǎn)生的二次電子、背散射電子等對樣品表面或斷口形貌進行觀察和分析。現(xiàn)在掃描電鏡都與能譜(EDS)組合，可以進行成分分析。所以，掃描電鏡也是顯微結(jié)構(gòu)分析的主要儀器，已廣泛用于材料、冶金、礦物、生物學等領(lǐng)域。

近代掃描電鏡的發(fā)展

　　掃描電鏡的設(shè)計思想早在1935年便已提出，1942年在實驗室制成diyi臺掃描電鏡，但因受各種技術(shù)條件的限制，進展一直很慢。1965年，在各項基礎(chǔ)技術(shù)有了很大進展的前提下才在英國誕生了diyi臺實用化的商品儀器。此后，荷蘭、美國、西德也相繼研制出各種型號的掃描電鏡，日本二戰(zhàn)后在美國的支持下生產(chǎn)出掃描電鏡，中國則在20世紀70年代生產(chǎn)出自己的掃描電鏡。前期近20年，掃描電鏡主要是在提高分辨率方面取得了較大進展，80年代末期，各廠家的掃描電鏡的二次電子像分辨率均已達到4.5nm。

　　目前，采用鎢燈絲電子槍掃描電鏡的分辨率Zgao可以達到3.5nm，采用場發(fā)射電子槍掃描電鏡的分辨率可達1nm。到20世紀90年代中期，各廠家又相繼采用計算機技術(shù)，實現(xiàn)了計算機控制和信息處理。

1、場發(fā)射掃描電鏡

　　采用場致發(fā)射電子槍代替普通鎢燈絲電子槍，這項技術(shù)從1968年就已開始應(yīng)用，由于該電子槍的亮度(即發(fā)射電子的能力)大為提高，因而可得到很高的二次電子像分辨率。采用場發(fā)射電子槍需要很高的真空度，在高真空度下由于電子束的散射更小，其分辨率進一步得到提高。

　　近年來，各廠家采用多級真空系統(tǒng)(機械泵+分子泵+離子泵)，真空度可達10^-7Pa。同時，采用磁懸浮技術(shù)，噪音振動大為降低，燈絲壽命也有增加。束流穩(wěn)定度在12h內(nèi)

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