干貨學習——XPS小知識2.0

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問：XPS元素掃描的結(jié)合能范圍比較大，出現(xiàn)其他峰，導致半定量的結(jié)果含量偏高，是什么原因呢？

答：轉(zhuǎn)數(shù)據(jù)時默認是對整個范圍積分，如果整個范圍存在其他峰，這種情況要注意把該元素峰的起始、終止結(jié)合能值手動改一下；

例如：下列數(shù)據(jù)的C峰掃描結(jié)果有如下兩個區(qū)域，1和2；首先可根據(jù)其他元素，如O峰的標準位置確定哪一區(qū)域為C峰，然后再以C1s284.6進行校正，將校正后的數(shù)據(jù)開始與結(jié)束峰位改一下，只對C峰區(qū)域積分即可。

問:XRD測試結(jié)果顯示有某種物相存在，但是XPS分峰不存在該化學態(tài)的元素，是什么原因？

答： XRD測試區(qū)域大小、深度都遠遠大于XPS，XPS僅表面幾納米的深度，XRD是微米級，這種情況很正常。

問:XPS測試，元素含量低的話，多掃幾次高分辨譜，會改善峰的強度和峰型嗎？

答：理論上是可以改善的，但是跟元素的具體含量還有關(guān)系，若含量極低的元素，比如0.5%以下的，實際都可以認定為幾乎沒有此元素，即使再掃幾十次，效果也很一般。

問:XPS最大刻蝕深度是多少？

答：最大刻蝕深度500nm，繼續(xù)更大深度的刻蝕意義不大，因為刻蝕過程有副效應，再往深刻蝕會因為弧坑效應、荷電左右等原因，刻蝕不動了。