什么是明場什么是暗場二者有何區(qū)別

什么是明場什么是暗場二者有何區(qū)別？通常，我們說的明場和暗場特指TEM模式下的明場像和STEM模式下的HADDF像，這兩種像用的最多。TEM模式下，取決于物鏡光闌使用的成像電子束是透射束還是衍射束，以及相對于中心的位置情況，簡單理解一下，場是明亮的叫做明場，即樣品為黑背景為白。而對于STEM模式下的HADDF像是由于接收到高角度的環(huán)形電子束成像所致，簡單理解是對重原子元素敏感的暗場像，樣品原子序數(shù)越大越亮，越小越黑，背景為黑。

接下來鑠思百檢測小編結(jié)合幾張例圖給大家一一介紹一下吧。

什么是明場像、暗場像？

●明場像：用物鏡光闌選擇透射束成像時(shí)，獲得的電子顯微像稱為明場像（BF：bright field image）

●暗場像：通過移動物鏡光闌選擇一個(gè)衍射束成像稱為暗場像（DF：dark field image）

透射電子顯微像觀察中用物鏡光闌確定成像的電子束

（備注：物鏡光闌位于物鏡后焦平面上，可以遮擋散射電子而提高試樣像的襯度。）

明、暗場像的襯度是相反的？

●通常情況下，在明場下，滿足布拉格衍射條件的位置為暗的襯度，而不滿足布拉格衍射條件的位置為亮的襯度。

●而在暗場下，暗場像的襯度與對應(yīng)選擇的衍射束有關(guān)；如果采用任意一個(gè)弱的衍射束（即偏離布拉格條件比較遠(yuǎn)的衍射束）用于形成暗場像，則并非所有部分的襯度都是相反的。

明場像有什么作用？

●形貌觀察是TEM中最基本的測試項(xiàng)目，且一般使用明場像進(jìn)行形貌觀察。

明場像中晶粒的襯度與晶粒取向有關(guān)，而一般情況下相鄰晶粒之間的晶體取向是不同的，因此不同的晶粒有不同的襯度，所以在明場像中能夠得以區(qū)別不同的晶粒，從而可以進(jìn)行晶粒尺寸統(tǒng)計(jì)。

●當(dāng)晶體中存在畸變時(shí)，晶內(nèi)某些區(qū)域的晶體學(xué)取向會發(fā)生微小的變化，從而在明場像中產(chǎn)生襯度上的差別。

因此利用明場像可以觀察點(diǎn)缺陷、線缺陷（位錯）、面缺陷（孿晶、層錯）等。

●基體和第二相的衍射條件一般也是不同的，因此稍有經(jīng)驗(yàn)的研究人員，可以在明場像中觀察第二相的分布和第二相的尺寸。

當(dāng)然，如果樣品是純非晶態(tài)，則不存在衍射襯度或取向襯度，只有質(zhì)厚襯度。

暗場像有什么作用？

●利用暗場像，可對晶體缺陷或第二相成像。

●利用暗場像，可統(tǒng)計(jì)晶粒尺寸，特別是塑性變形產(chǎn)生的細(xì)晶結(jié)構(gòu)，因畸變嚴(yán)重，明場像下晶粒形貌不明顯，利用暗場成像則能更準(zhǔn)確地統(tǒng)計(jì)晶粒尺寸。

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