離子減薄制樣

離子減薄制樣內(nèi)容詳情

項(xiàng)目簡(jiǎn)介

鑠思百檢測(cè)離子減薄常用于材料科學(xué)研究中，離子減薄的基本過(guò)程是通過(guò)高能Ar離子束轟擊樣品表面，將樣品表面原子層逐層剝離，進(jìn)而得到具有高度平坦度和厚度均勻的材料薄片。減薄后的樣品可以應(yīng)用各種表征，比如掃描電鏡（SEM）、透射電子顯微鏡（TEM）。

離子減薄過(guò)程一般分為穿孔和修整薄區(qū)兩步。離子束以較大入射角在樣品上擊穿一個(gè)中心孔，然后用較小的入射角度和較低能量的離子束在穿孔邊緣進(jìn)行修整。

塊狀樣品制備TEM樣品示意圖

應(yīng)用范圍

1.主要用于制備透射電子顯微鏡的薄膜樣品；
2.可用于金屬、非金屬、半導(dǎo)體、陶瓷、巖石等固體材料的顯微鏡透射樣品制備；

樣品要求

樣品狀態(tài)：塊體、薄膜、陶瓷、金屬片等；
樣品要求：樣品直徑大于等于3mm，樣品厚度最好可以磨到100 um以內(nèi)。