X射線光電子能譜（XPS）

X射線光電子能譜（XPS）

圖1   X射線光電子能譜

關鍵詞：X射線光電子能譜（XPS）

原理：激發(fā)源為X射線，用X射線作用于樣品表面，產生光電子。通過分析光電子的能量分布得到光電子能譜研究樣品表面組成和結構。

適合分析材料:金屬、高分子等材料，薄膜，涂層等

應用領域：半導體技術、冶金、催化、礦物加工和晶體生長等

特點：

⑴可測除H、He以外的所有元素。檢測靈敏度約為0.1 at%。

⑵亞單層靈敏度；探測深度1～10nm，依賴材料和實驗參數。

⑶可元素定量分析。

⑷優(yōu)異的化學信息，化學位移和衛(wèi)星結構與完整的標準化合物數據庫的聯合使用。

⑸分析是非結構破壞的；X射線束損傷通常微不足道。

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