GB T 33498-2017　納米結構材料表面化學分析表征

GB T 33498-2017　納米結構材料表面化學分析表征

本標準介紹了納米結構材料表面分析技術可獲得的信息類型。本標準不僅指出了表征納米結構材料的一般問題或困難，而且指出了使用特定方法的獨特方法或困難（見第納米章）。當一個物體或物質成分的大小接近幾個納米時，“塊體”“表面”和“顆?！狈治鲋g的差異變得模糊。除納米結構材料表征中的一般問題外，本標準還著重于與納米結構材料表面化學分析有關的具體問題。本標準涉及多種分析和表征方法，但重點仍是表面化學分析專業(yè)范圍內的方法，包括俄歇電子能譜法、x射線光電子能譜法、二次離子質譜法和掃描探針顯微鏡法。納米某些類型的顆粒表面特性（如表面電位）的測量通常是在溶液中進行的，而本標準中沒有涉及這種測量。盡管納米厚度薄膜和均勻納米粒子集有許多相似之處，但描述它們有不同的困難。本標準給出了適用于薄膜和粒子或納米物體的表征方法的示例?？纱_定的特性包括污染的存在、厚度涂層和加工后的表面化學特性前后。除了確定可用信息的類型外，本標準還概述了分析之前或分析期間必須考慮的一般和具體技術問題，包括待確定信息、穩(wěn)定性和探針影響、環(huán)境影響、樣品處理問題和數(shù)據(jù)解釋。本標準描述了納米可以使用一組特定的表面分析方法獲得的材料信息，但這些信息在性質上不完整。然而，本標準提供了重要的方法、思路和問題，也為進一步分析和研究這些問題提供了許多參考。

納米結構材料表面化學分析表征下列符號和縮略語適用于本文件。

AES : 俄歇電子能譜( Augerelectronspectroscopy )

APT : 原子探針斷層分析( atom probetomography )

AFM : 原子力顯微術( atomicforce microscopy )

ARXPS : 變角 X 射線光電子能譜( angleresolvedX-rayphotoelectronspectroscopy )

CNT : 碳納米管( carbonnanotube )

CVD : 化學氣相沉積( chemicalvapourdeposition )

dSIMS : 動態(tài)二次離子質譜( dynamicsecondaryion massspectrometry )

EI-MS : 電子電離質譜( electronionization massspectrometry )

EPMA : 電子探針顯微分析( electronprobe micro-analysis )

ESCA : 化學分析用電子能譜, 即 XPS ( electronspectroscopyforchemicalanalysis , sameas XPS )

G-SIMS : 靜態(tài)二次離子質譜的 一種 變體, 用 于獲取分子團 信息 ( gentle secondaryion massspec-trometry , avariantofstaticSIMStoextractinformationabout moleculargroups )

HRLEIS : 高分辨低能離子散射( highresolutionlowenergyionscattering )

ICP-MS : 電感耦合等離子體質譜( inductivelycoupledplasmamassspectrometry )

IMFP : 非彈性平均自 由 程( inelastic meanfreepath )

IRS : 紅外光譜( Infrared Spectroscopy )

ISS : 離子散射譜( ionscatteringspectroscopy )

LED : 發(fā)光二極管( lightemittingdiode )

LEIS : 低能離子散射( lowenergyionscattering )

LRS : 激光拉曼光譜( laser Ramanspectroscopy )

MultiQuant : XPS 數(shù)據(jù)定量分析的一種譜圖 評估程序( aspectrumevaluationprogramfor quanti-tativeevaluationof XPSdata )

MWCNT : 多壁碳納米管( multi-walledcarbonnanotube )

NRA : 核反應分析( nuclearreactionanalysis )

PECVD : 等離子體增強化學氣相沉積( plasmaenhancedchemicalvapourdeposition )PEMfuelcell : 聚合物電解質膜燃料電池( polymerelectrolyte membranefuelcell )

PMMA : 聚甲 基丙烯酸甲 酯( poly ( methyl methacrylate ))

PPV : 聚二烷氧基對苯乙烯撐( poly ( diakloxy-p-phenylenevinylene ))

PVB : 聚乙烯醇縮丁醛( poly ( vinyl butyral ))

QUASES : 電子能譜表面定量分析, XPS 和 AES 譜圖定量分析計算機程序( quantitativeanalysisofsurfacesbyelectronspectroscopy ,computerprogramforquantitativeevaluationof XPSand Augerspectra )

RBS : 盧瑟福背散射譜( Rutherfordbackscatteringspectroscopy )

SEM : 掃描電子顯微術( scanningelectron microscopy )

SESSA : 表面分析電子能譜模擬, XPS 和 AES 譜圖 定量分析計算 機程序( simulation of electronspectrafor surface analysis , computer program for quantitative evaluation of XPS andAESspectra )

SHG / SFG : 二次諧波效應產(chǎn)生/和頻效應產(chǎn)生( second harmonic generation / sumfrequency gener-ation )

SI : 二次離子( secondaryion )

SIMS : 二次離子質譜( secondaryion massspectrometry )

SNOM : 掃描近場光學顯微術( scanning near-fieldoptical microscopy )

SPM : 掃 描 探 針 顯 微 術, STM 、 AFM 和 其 他 掃 描 針 尖 顯 微 術 的 通 用 名 稱 ( scanning probemicroscopy , agenerictermcoveringSTM , AFMandotherscanningtipbased microscopies )

sSIMS : 靜態(tài)二次離子質譜( staticsecondaryion massspectrometry )

STM : 掃描隧道顯微術( scanningtunnelling microscopy )

SWCNT : 單壁碳納米管( single walledcarbonnanotube )

TEM-PEELS : 透射電 子 顯 微 術 - 平 行 電 子 能 量 損 失 譜 ( transmission electronmicroscopy-paral-lelelectronenergylossspectroscopy )

TCNQ : 四氰醌二甲 烷( Tetracyanoquinodimethane )

TOF-SIMS : 飛行時間 - 二次離子質譜( timeofflight-secondaryion massspectrometry )

WPMN-OECD : 經(jīng) 濟 合 作 與 發(fā) 展 組 織 - 人 工 納 米 材 料 工 作 組 ( Working Party on ManufacturedNanomaterials-Organizationfor Economic Co-operationand Development )

XPS : X 射線光電子能譜( X-rayphotoelectronspectroscopy )

μ TA : 微熱分析( microthermalanlaysis )

納米結構材料的表面分析表征

表面和界面對材料和材料系統(tǒng)的許多性能有很大的影響。表面能控制化學反應性，影響附著力，與傳熱和電子傳遞有關。在許多情況下，由于一種成分的表面污染或偏析（富集），表面成分可能不同于體相成分。一種材料或不同材料的晶粒間的界面對電子材料的性能和結構材料的強度有著重要的影響。鑒于表面和界面的重要性，已開發(fā)并使用特定技術來確定表面和界面的組成，并評估表面和界面對自然材料和工程材料性能的影響。重要的表面分析技術包括電子光譜學（俄歇電子光譜學/aes和x射線光電子能譜/xps）、與入射離子束相關的方法（二次離子質譜/sims和低能離子散射/lei）和基于掃描探針顯微鏡（spm）的方法（包括原子力顯微鏡/原子力顯微鏡和掃描隧道顯微鏡。為了開發(fā)材料和產(chǎn)品，分析產(chǎn)品在工作環(huán)境中的可靠性和性能，這些技術被廣泛用于表征基礎研究相關的自然表面和工程表面。這些分析方法在許多技術領域發(fā)揮著重要作用，包括醫(yī)學、衛(wèi)生、微電子、化學、電學、 運輸、航空航天和許多先進材料在許多技術領域的應用。盡管本標準也將提及其他表面分析技術，但其重點是aes、lei、sims、spm和xps，以及這些技術在納米結構材料表征中的應用。值得注意的是，除LEIS外，所有這些方法在ISO/TC20基礎研究相關下都有相應的分技術委員會。這些方法在許多材料中都有詳細的討論[9，10]。圖基礎研究相關總結了aes、sims、spm和xps的典型空間分辨率。在所有情況下，這些技術在至少一個維度上都有納米級的分辨率

發(fā)布時間：2017-02-28   實施時間：2018-01-01

發(fā)布部門：國家質量監(jiān)督檢驗檢疫總局

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2、細節(jié)溝通（聯(lián)系在線QQ）

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4、測試委托單和樣品郵寄

5、聯(lián)系客服付款

6、安心等待

7、接受數(shù)據(jù)發(fā)票

8、后期服務

以上是對于測試的相關介紹，如有其它檢測需求可以咨詢實驗室工程師，為您一對一服務。

溫習提示

1、不定期推出各種優(yōu)惠活動，詳情通過電話、在線客服確認測試條件、檢測費用、檢測周期等。

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