核磁分析教程 二維碼
發(fā)表時(shí)間:2021-08-07 09:04作者:鑠思百檢測(cè)來(lái)源:鑠思百檢測(cè) 核磁共振氫譜(1H-NMR)原理氫原子是磁性的。例如,當(dāng)電磁波照射氫原子核時(shí),它可以通過(guò)共振吸收電磁波能量,并進(jìn)行躍遷。核磁共振儀可記錄相關(guān)信號(hào)。不同環(huán)境中的氫原子在產(chǎn)生共振時(shí)吸收電磁波的頻率不同,它們?cè)诠庾V中的位置也不同。不同氫原子之間的這種差異稱為化學(xué)位移。利用化學(xué)位移、峰面積、積分值和耦合常數(shù)等信息,可以推斷其在碳骨架上的位置。
1H-NMR譜提供的信息
(1)通過(guò)化學(xué)位移(δ,ppm)能夠找到峰對(duì)應(yīng)的質(zhì)子或基團(tuán)的類型(如烷烴,烯烴,苯環(huán),醛等) (2)積分可以給出各類型質(zhì)子的相對(duì)數(shù)量關(guān)系 (3)通過(guò)自旋-自旋裂分(幾重峰)可以判斷相鄰C上H的數(shù)目 (4)偶合常數(shù)-J提供了原子排列的結(jié)構(gòu)關(guān)系(較復(fù)雜)
化學(xué)位移δ: 因核所處化學(xué)環(huán)境改變而引起共振條件(核的共振頻率或磁場(chǎng)強(qiáng)度)變化的現(xiàn)象,稱為化學(xué)位移。 (1)δ值越大,屏蔽作用越小,吸收峰出現(xiàn)在低場(chǎng) (2)δ值越小,屏蔽作用越大,吸收峰出現(xiàn)在高場(chǎng) 影響化學(xué)位移的因素及化學(xué)位移表
影響化學(xué)位移的因素:(1)電子效應(yīng):誘導(dǎo)效應(yīng)、共軛效應(yīng) (2)磁各向異性效應(yīng) (3)氫鍵(分子間或者分子內(nèi)) (4)H核交換 (5)溶劑效應(yīng)(二甲基亞砜、氯仿、苯、四氯化碳、四氫呋喃等)
各類物質(zhì)化學(xué)位移
烷烴化學(xué)位移: (1)R-CH3 0.7-1.3ppm甲基通常以較強(qiáng)的單峰,雙重峰或三重峰出現(xiàn)而較容易識(shí)別,即使是與其他CH信號(hào)重疊;
(2)R-CH2-R 1.2-1.4ppm在長(zhǎng)鏈烷烴中,中間的亞甲基(CH2) 往往都會(huì)重疊在一起而不能分辨開(kāi);
(3)R3CH 1.4-1.7ppm次甲基質(zhì)子 (CH) 相對(duì)于亞甲基和甲基具有更大的化學(xué)位移值。
偶合行為: -CH-CH3 J≈7-8Hz烴鏈中,相鄰H間會(huì)相互偶合其自旋-自旋裂分服從n+1 規(guī)則。
烯烴炔烴的化學(xué)位移: (1)烯烴H的化學(xué)位移處于 5 - 6.5 ppm (由于磁各向異性效應(yīng)); (2)連到雙鍵上的甲基或亞甲基出現(xiàn)在1.5- 2.0 ppm; (3)對(duì)于一般末端炔烴, 質(zhì)子共振出現(xiàn)在約 2 ppm; (4)炔烴:δH=1.6-3.4 ppm。
芳香族化合物化學(xué)位移: (1)供電性基團(tuán)取代-OR,-NR :δH=6.5-7.0ppm; (2)吸電性基團(tuán)取代-COCH3,-CN,-NO2 :δH=7.2-8.0ppm; (3)偶合行為 3Jo≈7-10Hz 4Jm≈2-3Hz 5Jp≈0-1Hz 通常可以通過(guò)這些質(zhì)子間的裂分模式以及偶合常數(shù)的大小來(lái)確定環(huán)上的取代位置。
鹵代烴化學(xué)位移: -CH-I 2.0-4.0 ppm -CH-Br 2.7-4.1 ppm -CH-Cl 3.1-4.1ppm -CH-F 4.2-4.8 ppm 去屏蔽效應(yīng)來(lái)源于取代鹵原子的電負(fù)性
醇化學(xué)位移: 1.C-OH 0.5-5.0ppm C-OH質(zhì)子化學(xué)位移不固定,其位置取決于濃度、溶劑及溫度;通其峰形較寬; 2.CH-OH 3.2-3.8ppm a碳上質(zhì)子因0原子的電負(fù)性而受到去屏蔽影響,位于譜圖低場(chǎng)區(qū)。
醚化學(xué)位移: 1. -O-CH- 3.2-3.8ppm由于O原子電負(fù)性使得與O相連C上質(zhì)子受到去屏蔽影響。
胺: R-N-H 0.5-4.0ppm依賴于溫度、酸性大小、氫鍵數(shù)量及溶劑; -CH-N- 2.2-2.9ppm
由于苯環(huán)的磁各向異性而受到去屏蔽影響。
羰基化合物: 羰基存在磁各向異性效應(yīng); 1,磁各向異性效應(yīng)使醛上的 C-H 受去屏蔽影響: 9-10 ppm; 2,C=O相連的亞甲基及甲基也磁各向異性效應(yīng)受到去屏蔽影響: 2.0 - 2.5 ppm; 3,當(dāng)亞甲基直接與酯氧相連則位移表現(xiàn)為約4.0 ppm。
鹵代烴化學(xué)位移: -CH-I 2.0-4.0 ppm -CH-Br 2.7-4.1 ppm -CH-Cl 3.1-4.1ppm -CH-F 4.2-4.8 ppm 去屏蔽效應(yīng)來(lái)源于取代鹵原子的電負(fù)性
醛化學(xué)位移: 1,R-CHO 9.0-10.0ppm (C=O磁各向異性,去屏蔽); 2,-CH-CH=O 2.1-2.4ppm也受到C=O 基去屏蔽影響,因距離遠(yuǎn)而較弱些。
酮化學(xué)位移: 1,RCHCOR 2.1-2.4ppm aH因相鄰的C=O基的磁各向異性效應(yīng)受到去屏蔽影響。
酯化學(xué)位移 1,R-CH-CO2R 2.1-2.5ppma H 受C=O磁各向異性效應(yīng)影響; 2,-COO-CH- 3.5-4.8ppm 因O原子電負(fù)性而受到去屏蔽影響。
羧酸的化學(xué)位移: 1,R-COOH 11.0-12.0ppm因O原子的電負(fù)性受到去屏蔽影響,強(qiáng)酸性影響, 這也是羧酸的典型特征峰; 2,CH-COOH 2.1-2.5ppm受羰基去屏蔽效應(yīng)影響。
酰胺化學(xué)位移: 1,R(CO)-N-H 5.0-9.0ppm -NH質(zhì)子化學(xué)位移不固定,其位置取決于 濃度、溶劑及溫度;通常其峰形較寬; 2,-CH-CONH- 2.1-2.5ppm酰胺中aH位移與其它酰基類似,受到去屏蔽影響程度也相當(dāng); 3,R(CO)-N-CH 2.3-3.2ppm 因N原子電負(fù)性而受到去屏蔽影響。 |