紫外光電子能譜應(yīng)用 二維碼
發(fā)表時(shí)間:2023-02-13 16:04 1. 前言 對(duì)于光電子能譜而言,大家比較熟悉的XPS,也是我們?cè)趯?shí)驗(yàn)中經(jīng)常遇到的表征。但是,實(shí)際上而言,光電子能譜最早是在紫外光激發(fā)下發(fā)現(xiàn)的。也正是因?yàn)樽贤夤廨椪障碌墓怆娦?yīng)的發(fā)現(xiàn),啟發(fā)了愛因斯坦于1905年提出了著名的光電效應(yīng)方程。 紫外光電子能譜(Ultraviolet photoelectron spectroscopy, UPS)用的是紫外光激發(fā)樣品表面,從而使得樣品表面出射光電子。He燈(He I激光能量為21.21 eV, He II 為40.82 eV),同步輻射光源由于能量連續(xù)可調(diào),也可以作為真空紫外光源。 與XPS相比,紫外光能量較低,因而出射光電子大多來自價(jià)電子,很少用于定量分析。但是,價(jià)電子一般參與化學(xué)成鍵作用,因此UPS特別適合研究表明的成鍵作用。同時(shí),UPS還能提供固體功函數(shù),能帶結(jié)構(gòu)等信息。測(cè)量能帶結(jié)構(gòu)需要角分辨的UPS(ARUPS),比較復(fù)雜(小編也不懂)。今天主要為大家介紹利用UPS測(cè)量樣品功函數(shù)。 圖 0 UPS測(cè)量示意圖 2.功函數(shù)測(cè)量原理
圖1能量分析器對(duì)金屬樣品功函數(shù)測(cè)量的影響[1] 一般UPS直接以費(fèi)米能級(jí)為能量參考點(diǎn),那么結(jié)合能EB=0就對(duì)應(yīng)費(fèi)米能級(jí)EF.但是由于實(shí)驗(yàn)上的原因,愛因斯坦的光電方程需要考慮能量分析器的功函數(shù)(Φsp)的偏離: EK=hv-EB-Φsp; 典型UPS譜圖如圖2所示:
圖2 典型UPS譜。 左側(cè)為二次電子截止邊,右側(cè)高動(dòng)能區(qū)為費(fèi)米邊。光電子激發(fā)的電子在近表層發(fā)生非彈性散射作用,激發(fā)出的二次電子也有足夠的能量逃逸出表面,形成譜圖中的二次電子背景(secondary electrons background) [2]。 對(duì)于金屬樣品而言,給定激發(fā)光子能量hv,所檢測(cè)到的最大動(dòng)能為: Efermikinetic energy=hv -Φsp 而最小動(dòng)能由樣品功函數(shù)(Φ)與分析器功函(Φsp)共同決定: EK,MIN=Φ-Φsp(即為UPS中的截止邊,cutoff) 兩個(gè)能量進(jìn)行差減,可以得到金屬樣品的絕對(duì)功函數(shù) Φ=hv – (EK,MAX-EK,MIN)=hv-W 可以將W稱作UPS出射電子譜帶的寬度,即將費(fèi)米邊的能量與截止邊的能量差減得到[1]。 注意: 1. 上述例子是以金屬樣品為例,此時(shí)金屬樣品與譜儀良好電接觸,費(fèi)米能級(jí)完全一致,測(cè)得金屬的絕對(duì)功函數(shù)。 2. 對(duì)于半導(dǎo)體而言,EF位于帶隙之間,它與價(jià)電子所能填充能量位置(價(jià)帶頂)有一個(gè)位置的能量差,比較難確定,UPS譜圖高動(dòng)能起始邊其實(shí)對(duì)應(yīng)于價(jià)帶頂位置。采用上述計(jì)算方法,即hv-W,實(shí)際上得到的為價(jià)帶頂(VBM)位置,也可用來計(jì)算電離勢(shì)(Ionization potential)[3]。 3.功函數(shù)測(cè)量實(shí)例 3.1. 金屬(單晶)表面 在實(shí)際測(cè)量中,利用He I 紫外光就可以測(cè)得UPS譜,計(jì)算出功函數(shù)。
圖3 Au(111)單晶表面的UPS測(cè)量[2] 此處費(fèi)米臺(tái)階中點(diǎn)可以定為費(fèi)米能級(jí)位置。而截止邊能量為15.95eV,紫外光為He I為21.2eV; 則Au的功函數(shù)Φ=hv– (EK, MAX- EK, MIN)= 21.2-15.95=5.25 eV; 注:有時(shí)候?yàn)榱吮WC二次截止邊附近的電子動(dòng)能大于0,減小真空腔體影響,得到較為銳利的截止邊,可以在樣品加上一定的偏壓,按照相應(yīng)的偏壓值,以及上述公式計(jì)算功函數(shù)。 3.2. 多晶、粉末樣品 對(duì)于多晶樣品而言,利用UPS測(cè)量功函數(shù)的原理是一樣的,也需要得到費(fèi)米邊和二次電子截止邊,但是實(shí)際上分析有一定的難度。 首先樣品不純,比如表面吸附水,會(huì)極大地影響功函數(shù)的測(cè)量值;其次如果樣品之間不夠致密,可能會(huì)把基底露出來,導(dǎo)致基底信號(hào)干擾。另外,樣品導(dǎo)電性也有很大影響,很多粉末樣品不導(dǎo)電,荷電效應(yīng)也會(huì)對(duì)光電子出射產(chǎn)生影響,。 因此,粉末多晶樣品利用UPS得到的功函數(shù)值,會(huì)有比較大的測(cè)量誤差。 如果能保證制樣中樣品的潔凈程度,測(cè)得的結(jié)果也有意義,此處也舉一例:
圖 4 Ca2N的功函數(shù)測(cè)量[4] 圖4中,給出了Ca2N二維片層材料的UPS功函數(shù)的測(cè)量。作者利用自制的設(shè)備,在超高真空條件下得到了干凈的表面,然后分別測(cè)試了單晶片和壓片多晶樣品的功函數(shù),分別為3.5 eV和2.6 eV,分別來自樣品的(001)面和(100面)。 從圖4 b中可以看出,作者也通過在單晶樣品上面加上不同的偏壓(0 ~ 10 V),可以看出截止邊隨著偏壓的增加而線性移動(dòng)。而多晶樣品隨偏壓變化不明顯,總是給出樣品中最低晶面的功函數(shù)[4]。 4. 價(jià)帶譜 UPS對(duì)于價(jià)帶電子結(jié)構(gòu)非常敏感,因此能提供豐富的表面成鍵結(jié)構(gòu)信息。比如CO在金屬表面的吸附,就可以用UPS進(jìn)行探測(cè)CO的分子軌道信息(圖5)。
圖5 CO吸附與Ni表面的UPS譜 上一篇XRD有什么用
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